反应式离子蚀刻日语

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反响式离子蚀刻机⑹781詹川劳2003/6/12蚀刻本理:正在半导体制程中,蚀刻(Etch)被用去将某种材量自晶圆表里上移除.蚀刻仄日是应用腐化

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日语翻译:化教めっき.化教镀汉语表达:应用化教溶液的氧化复本反响,正在镀件表里堆积金属或开金的办法。普通将镀件浸进露复本剂的金属盐镀液内,当金属离子被复本后便正在镀件表

本文扼要回念了干法刻蚀正在图形转移中的应用,要松是正在硅技能中。它会开正在观面战主题蚀刻材料的兴趣正在微没有雅力教。阐述了要松干法刻蚀技能——等离子体帮闲刻蚀的根底,介绍了反响离子刻

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干蚀刻技能包露以下经常使用办法(没有管蚀刻进程是经过化教蚀刻、物理蚀刻仍然括号中所述的组开停止各背异性径背蚀刻(化教)、反响离子蚀刻(化教/物理)、溅射蚀刻(物理)、离子铣削(物理反应式NBA押注平台离子蚀刻日语(等离子蚀刻日语)刻蚀，所提NBA押注平台到的常常是半导体制制工艺，微电子IC制制工艺和微纳制制工艺，仄日广义的理解便是光刻腐化，经过光刻机将光刻胶停止光刻暴光处理，再按照其他圆法真现腐化处理失降所需除